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一氟甲烷（HFC-41），又名甲基氟、氟甲烷，英文名Methyl Fluoride，CAS號為593-53-3，分子式為CH3F，在常溫、常壓下是一種無色、無嗅的易燃?xì)怏w。HFC-41的臭氧消耗潛能值（ODP）為0，全球變暖潛能值（GWP100）為116，大氣壽命為2.8年。

高純HFC-41氣體是一種綠色、高效的新型蝕刻氣，用在半導(dǎo)體及電子產(chǎn)品的制程中，在射頻場下其會溶解氟離子，可選擇性的蝕刻硅化合物的薄膜，即反應(yīng)性離子蝕刻（Reactive-ion Etching）。HFC-41對Si3N4（SiNx）介質(zhì)層的選擇性比Si和SiO2高，可在5-10 nm的厚度內(nèi)，對該介質(zhì)層進(jìn)行精準(zhǔn)刻蝕，刻蝕速率也更高。在實(shí)際應(yīng)用過程中，HFC-41會與氧氣、氮?dú)?、氦氣、氬氣、三氟化氮、二氧化碳中的一種或幾種進(jìn)行混配，從而同時滿足不同臨界尺寸偏移量和不同掩膜/介質(zhì)層選擇性的工藝需求。

HFC-41由氣體公司供給半導(dǎo)體制造商。在已申請的應(yīng)用專利中，涉及CH3F使用的主要半導(dǎo)體制造商有：美國應(yīng)用材料（Applied Materials Inc）、英特爾、臺灣聯(lián)華電子、東京威力科創(chuàng)、富士通株式會社（日本）、中芯國際集成電路制造（上海）、臺灣積體電路制造（世界先進(jìn)積體電路）和三星等，還有少量國內(nèi)外大型氟化工企業(yè)申請了CH3F刻蝕用途專利。

中國是全球最大的消費(fèi)電子市場，同時也是全球最大的半導(dǎo)體市場。目前中國半導(dǎo)體的需求占全球第一，大約為40%～50%，且還在持續(xù)增長。然而，中國的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)自給能力和市場需求極不匹配。我國電子氣體形成產(chǎn)業(yè)是在2000年之后，產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)較為薄弱。近年來，在一系列產(chǎn)業(yè)政策的帶動下，我國超大規(guī)模集成電路、平板顯示器、光伏發(fā)電等產(chǎn)業(yè)迅速發(fā)展，含氟電子氣體市場需求量明顯增加。因此不少氟化工生產(chǎn)研究企業(yè)將含氟電子氣體列為重點(diǎn)發(fā)展方向，市場前景廣闊的含氟電子氣體已然成為氟化工行業(yè)研究和開發(fā)的熱點(diǎn)之一。

經(jīng)過二十幾年的發(fā)展，總體上看我國含氟特氣研發(fā)生產(chǎn)水平尚可，CF4、C2F6、NF3和SF6等主流清洗和刻蝕氣體都逐步具備了自主供應(yīng)能力，產(chǎn)品陸續(xù)供應(yīng)臺積電、中芯國際等一線廠商。但國產(chǎn)含氟電子氣體產(chǎn)品在性能與生產(chǎn)規(guī)模方面，如先進(jìn)制程工藝用刻蝕氣體和新型環(huán)境友好含氟特氣C4F6、CF3I、CH3F和COF2等產(chǎn)品的布局方面與國外相比都有較大的差距。

泉州宇極研發(fā)新一代電子刻蝕氣一氟甲烷

泉州宇極經(jīng)潛心研發(fā)，成功量產(chǎn)電子刻蝕氣一氟甲烷，打破國內(nèi)單一廠商在該產(chǎn)品上的業(yè)務(wù)格局。作為含氟化工品生產(chǎn)企業(yè)，宇極擁有獨(dú)立自主知識產(chǎn)權(quán)HFC-41的生產(chǎn)及提純工藝技術(shù)，可產(chǎn)出5N級高純產(chǎn)品，能根據(jù)不同客戶的要求，對雜質(zhì)組分進(jìn)行有針對性的定向去除。