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產(chǎn)品應(yīng)用 半導(dǎo)體與數(shù)據(jù)中心冷卻液 三氟乙酰氟的應(yīng)用

三氟乙酰氟的應(yīng)用

2024-01-16 490

三氟乙酰氟用途概述

1.高純?nèi)阴7前雽?dǎo)體行業(yè)等離子刻蝕工藝中一種重要的刻蝕氣體,主要用作介質(zhì)刻蝕
與傳統(tǒng)的CF4/O2 和C2F6/ O2相對(duì)比CF3COF/ O2可以獲得更高的F/C比。理論上,通過調(diào)節(jié)O2的濃度來調(diào)節(jié)F/C比,以達(dá)到最佳的刻蝕效果。其關(guān)鍵在于·CF3與O2有如下的反應(yīng):
CF3COF + plasma → ·CF3 +CO + F? ? ? ? (1)
CF3· + O2 → CF3OO·? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? (2)
CF3OO· + CF3OO· → CF3O· + O2? ? ? ? (3)
CF3O· → F + COF2? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?(4)
COF2 + plasma → CO + 2F? ? ? ? ? ? ? ? ? ? (5)
CF3· + CF3· → CF3CF3? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? (6)
反應(yīng)(3)與反應(yīng)(6)是競(jìng)爭(zhēng)反應(yīng),如果O2含量低,反應(yīng)(6)起主導(dǎo),則F原子的收率就要下降。
三氟乙酰氟具有以下特點(diǎn):
  1. 刻蝕速率快、高深寬比、高選擇性的優(yōu)點(diǎn),可以實(shí)現(xiàn)近乎垂直的刻蝕加工,為制造小體積、大容量的3D NAND閃存提供了可能;
  2. 同時(shí)三氟乙酰氟環(huán)境友好,GWP < 1,大氣壽命6.9天,溫室效應(yīng)很低,是當(dāng)前兼具優(yōu)異刻蝕性能和環(huán)保性能的含氟電子刻蝕氣之一。

 

2.三氟乙酰氟可與其他組分混合,組成一種低GWP值的制冷劑
隨著全球氣候變化問題日益凸顯,越來越多的國(guó)家提出了無碳未來的愿景。2023年,歐盟委員會(huì)和歐盟議會(huì)達(dá)成協(xié)議,到2050年,HFCs(氫氟烴)的消費(fèi)將逐步被完全淘汰。根據(jù)歐盟委員會(huì)分配的生產(chǎn)權(quán),HFCs的生產(chǎn)將在2036年之前逐步降至最低,達(dá)到15%。針對(duì)小型家用和熱泵設(shè)備方面,從2027年開始,歐盟將開始全面禁止使用GWP值大于150的HFCs的小型(<12 kW)單體式熱泵設(shè)備和空調(diào),并在2032年實(shí)現(xiàn)完全淘汰。
另外,根據(jù)今年美國(guó)環(huán)保署(EPA)的最新提案,從2025年開始,所有常見的較高GWP值的HFCs制冷劑,包括HFC-134a、HFC-404a、HFC-410a等,在大多數(shù)的空調(diào)中都將被禁用。因此,開發(fā)GWP更低、穩(wěn)定、安全的制冷劑仍是制冷行業(yè)亟需解決的問題。
三氟乙酰氟與其他組分混合成一種低GWP值的制冷劑(GWP≤150),從而滿足溫室氣體排放的相關(guān)要求。